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感應耦合等離子體刻蝕系統利用射頻天線，通過感應耦合方式在放電腔中產生高密度等離子體，同時刻蝕工作臺引入射頻偏壓，射頻偏壓作用下，等離子體中垂直向下對被刻蝕材料表...

反應離子腐蝕技術是一種各向異性很強、選擇性高的干法腐蝕技術。它是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的，利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕，即是利用離...

SENTECH感應耦合等離子刻蝕機SI 500是一款由SENTECH（德國）公司研發并生產的電感耦合等離子體（ICP）干法刻蝕系統。該產品以其高精度、低損傷、高...

SENTECH儀器（德國）有限公司是國際主流的半導體設備商，研發、制造和銷售先進的薄膜測量儀器PECVD和等離子工藝設備.

IBE刻蝕機采用離子束刻蝕技術，其原理基于離子和固體表面的相互作用。具體而言，離子束通過控制系統加速并聚焦，然后瞄準待刻蝕的樣品表面。離子束在與樣品表面相撞時，...